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发明名称
FABRICATION OF HIGH-DENSITY TRENCH DMOS USING SIDEWALL SPACERS
摘要
申请公布号
EP0904604(A4)
申请公布日期
1999.06.16
申请号
EP19970923533
申请日期
1997.05.07
申请人
SILICONIX INCORPORATED
发明人
HSHIEH, FWU-IUAN;HO, YUEH-SE;LAN, BOSCO;DUN, JOWEI
分类号
H01L21/26;H01L21/336;H01L29/06;H01L29/10;H01L29/40;H01L29/78;(IPC1-7):H01L29/68;H01L21/265
主分类号
H01L21/26
代理机构
代理人
主权项
地址
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