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<p>Die Erfindung betrifft einen Entwickler für bestrahlte, strahlungsempfindliche Aufzeichnungsmaterialien, insbesondere zur Herstellung von Offsetdruckplatten, der Wasser, eine in wäßriger Lösung alkalisch reagierende Verbindung und ein als Emulgator wirkendes Copolymer mit Einheiten aus (I) einer hydrophoben Vinylverbindung, die Alkylreste mit bis 30 Kohlenstoffatomen aufweist, und (II) einer hydrophilen, ethylenisch ungesättigten Carbonsäure enthält. Ein Teil der Carboxygruppen des Copolymers ist verestert mit Umsetzungsprodukten von (A) (C1-C30)Alkanolen, (C8-C25)Alkansäuren, (C1-C12)Alkyl-phenolen, Di(C1-C20)alkylaminen mit (B) (C2-C4)Alkylenoxiden oder Tetrahydrofuran, wobei das Molverhältnis (A) : (B) im Bereich von 1 : 2 bis 1 : 50 liegt. Sollen Aufzeichnungsmaterialien mit einer negativ arbeitenden Schicht entwickelt werden, enthält der Entwickler zusätzlich noch ein mit Wasser mischbares organisches Lösemittel und eine oberflächenaktive Verbindung. Der Entwickler hat eine geringe Grundviskosität, die bei zunehmender Belastung mit Schichtbestandteilen nur langsam ansteigt. Er verhindert zudem die Ablagerung von Schichtbestandteilen in der Druckplattenentwicklungsmaschine.</p> |
