发明名称 CHARGED ELECTRON BEAM EXPOSURE APPARATUS AND CHARGED ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD
摘要
申请公布号 KR100202970(B1) 申请公布日期 1999.06.15
申请号 KR19980047777 申请日期 1998.11.09
申请人 FUJITSU LIMITED 发明人 KOBAYASHI, KAATSUHIKO;YAMADA, AKIO
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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