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发明名称 HEAT TREATMENT APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号 KR100203782(B1) 申请公布日期 1999.06.15
申请号 KR19960038477 申请日期 1996.09.05
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 NAM, KI-HEUM;LEE, BYUNG-KWAN;KIM, DONG-HO;AHN, EUNG-KWAN
分类号 H01L21/66;H01L21/02;H01L21/22;H01L21/677;(IPC1-7):H01L21/324 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
主权项
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