| 发明名称 |
PLASMA TREATMENT AND PLASMA TREATMENT APPARATUS |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH11158662(A) |
申请公布日期 |
1999.06.15 |
| 申请号 |
JP19970329923 |
申请日期 |
1997.12.01 |
| 申请人 |
HITACHI LTD;HITACHI TOKYO ELECTRON CO LTD |
发明人 |
HASEBE ARIHIRO;HARASHIMA MASASHIGE |
| 分类号 |
C23F4/00;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):C23F4/00;H01L21/306 |
主分类号 |
C23F4/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
