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发明名称 PHOTORESIST FOR DEEP UV AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME
摘要
申请公布号 KR100200305(B1) 申请公布日期 1999.06.15
申请号 KR19960025719 申请日期 1996.06.29
申请人 HYUNDAI ELECTRONICS IND. CO.,LTD 发明人 BOK, CHUL-KYU;KO, CHA-WON
分类号 G03F7/004;C08F8/30;C08F220/02;C08F220/58;C08L33/24;G03F7/039;G03F7/26;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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