发明名称 CRT聚焦修正方法、CRT对聚焦修正电路及显示装置
摘要 本发明提供不必要增加记忆容置而可以对应于画尺寸之变更及水平同步信号之频率之变更,产生修正CRT聚焦所需之抛物线波形电压之CRT聚焦之修正方法。本发明之CRT聚焦之修正方法为对应于CRT画面上之基准画尺寸分别记忆产生修正CRT聚焦之抛物线波形电压所需之修正资料及基准画尺寸之尺寸资料,比较由外部设定之画尺寸之尺寸资料与基准画尺寸之尺寸资料(S1),两尺寸资料不相同时(S1),依据所记忆之修正资料及该两尺寸资料(S3),对应于所设定之画尺寸演算修正CRT聚焦所需之修正资料(S5),依据演算之结果产生抛物线波形电压( S7)。
申请公布号 TW361038 申请公布日期 1999.06.11
申请号 TW086116131 申请日期 1997.10.30
申请人 三菱电机股份有限公司 发明人 田中宏治;吉田幸一
分类号 H04N3/223;H04N3/26 主分类号 H04N3/223
代理机构 代理人 陈灿晖 台北巿城中区武昌街一段六十四号八楼;洪武雄 台北巿城中区武昌街一段六十四号八楼
主权项 1.一种CRT聚焦修正方法,预先记忆产生对应于CRT画 面上 之基准画面尺寸修正CRT聚焦之抛物线波形电压所 需之修 正资料及前述基准画尺寸之尺寸资料,比较由外部 设定之 画面尺寸之尺寸资料与前述基准画尺寸之尺寸资 料,两尺 寸资料不相同时依据前述修正资料及该两尺寸资 料,对应 于前述所设定之画尺寸演算修正CRT聚焦所需之修 正资料 ,依据所演算之结果产生前述抛物线波形电压为特 征者。2.一种CRT聚焦之修正方法,记忆CRT之水平同 步信号之频 率之上下限値及分别对应于该上下限値产生修正 CRT聚焦 之双曲线波形电压所需之各修正资料,计数前述水 平同步 信号之频率,本次计数之频率对于前次计数之频率 比较, 两频率不相同时,依据本次计数之频率,前述上下 限値及 前述各修正资料,对应于本次计数之频率演算修正 CRT聚 焦所需之修正资料,依据演算之结果产生前述双曲 线波形 电压为特征者。3.一种CRT聚焦修正电路,具备分别 记忆为产生对应于CRT 画面之基准画尺寸修正CRT聚焦之抛物线波形电压 之修正 资料及前述基准画尺寸之尺寸资料之记忆器,以及 设定 CRT画面上之画尺寸,输出所设定之画尺寸之尺寸资 料( size data)之画尺寸设定电路,以及比较该画尺寸设 定电 路所输出之尺寸资料及前述基准画尺寸之尺寸资 料之比较 装置,以及该比较装置之比较结果表示两尺寸资料 不相同 时,依据前述修正资料及该两尺寸资料,对应于前 述画尺 寸设定电路所设定之画尺寸演算修正CRT聚焦所需 之修正 资料之演算装置,以及依据该演算装置之演算结果 产生前 述抛物线波形电压而输出之抛物线波形电压产生 电路等为 特征者。4.一种CRT聚焦修正电路,具备记忆产生CRT 之水平同步信 号之频率之上下限値及分别对应于该上下限値修 正CRT聚 焦之抛物线波形电压所需之各修正资料之记忆器, 以及计 数前述水平同步信号之频率之频率计数电路,以及 该频率 计数电路将本次所计数之频率及该频率计数电路 前次所计 数之频率比较之比较装置,当该比较装置之比较结 果表示 两频率不相同时,依据本次计数之频率,前述上下 限値及 前述各修正资料,对应于本次计数之频率演算修正 CRT聚 焦所需之修正资料之演算装置,以及依据该演算装 置之演 算结果将前述抛物线波形电压产生输出之抛物线 波形电压 产生电路等为特征者。5.一种显示装置,具备申请 专利范围第3项或第4项所记载 之CRT聚焦修正电路之至少一方为特征者。图式简 单说明 :第一图表示本发明之CRT聚焦之修正方法及CRT聚焦 修正 电路之实施例之构成之方块图。第二图表示本发 明之CRT 聚焦之修正方法及CRT聚焦修正电路之动作之流程 图。第 三图表示本发明之CRT聚焦之修正方法及CRT聚焦修 正电路 之实施例之构成之方块图。第四图表示本发明之 CRT聚焦 之修正方法及CRT聚焦修正电路之动作之流程图。 第五图 表示本发明之显示装置之实施例之构成之方块图 。第六图 表示以往之CRT聚焦之修正电路之构成例之方块图 。
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