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1.一种用于一物理气相沉积系统(100)之靶(202),其包 括 :一中央区域(206),其系为要被溅射之区域,且具有 一 边缘(220,218);一轮缘(212),其系自该中央区域(206) 径向地延伸,且具有一于该物理气相沉积系统(100) 内支 承该靶(202)之支承表面(206);以及该靶(202)包含一部 分(234),该部分(234)系遮蔽该边壁(218),以阻碍溅射 物质沉积于该边缘(220,218)上。2.如申请专利范围 第1项之靶,其中该中央区域(206)另包 含一层可溅射物质。3.如申请专利范围第1项之靶, 其中遮蔽该边壁(218)之该 部分(234)系该中央区域(206)之一角(234)。4.一种用 于一物理气相沉积系统之装置,其包括:一靶( 202),其包括:一中央区域(206),其系为要被溅射之区 域,且具有一边缘(220,218);一轮缘(212),其系自该 中央区域(206)径向地延伸,且具有一于该物理气相 沉积 系统(100)内支承该靶(202)之支承表面(206);该靶(202) 包含一部分(234),该部分(234)系遮蔽该边壁(218),以 阻碍溅射物质沉积于该边缘(220,218)上;以及一暗区 保 护屏(200),其系安装于靠近该靶(202),以于该暗区保 护 屏(200)与该支承表面(214)及该边缘(218,220)间形成一 空隙(126)。5.如申请专利范围第4项之装置,其中该 中央区域(206)另 包含一层可溅射物质。6.如申请专利范围第4项之 装置,其中遮蔽该边壁(218)之 该部分(234)系该中央区域(206)之一角(234)。7.如申 请专利范围第4项之装置,其中该暗区保护屏(200) 另包含一与该支承表面(214)成正交之内表面(232)。 8.如申请专利范围第4项之装置,其中该暗区保护屏 (200) 另包含一内表面(232),该内表面(232)具有与该靶(202) 之该边壁(218)平行、间隔之关系。图式简单说明: 第一 图说明一传统式物理气相沈积系统之简化横截面 图;第一 图A说明一传统之靶和一传统之暗区保护屏之间之 关系之 一详细横截面图;以及第二图说明本发明之改良式 靶和暗 区保护屏之一横截面图。 |
