| 主权项 |
1.一种酸性清洁组合物,其pH値为0.1至7,其包含一种 占 总组合物重量之0.1%至45%之有机酸及一种占总组合 物重 量之0.01%至10%之界面活性剂,其特征在于该界面活 性剂 系包括阳离子系、两性离子系、两性系界面活性 剂或其混 合物,且在于该组合物不含香料。2.根据申请专利 范围第1项之酸性清洁组合物,其中该组 合物为一种去除石灰垢之组合物且pH値为0.1至5。3 .根据申请专利范围第2项之酸性清洁组合物,其中 该组 合物为一种去除石灰垢之组合物且pH値为0.1至3。4 .根据申请专利范围第1项之酸性清洁组合物,其中 该有 机酸为顺丁烯二酸。5.根据申请专利范围第4项之 酸性清洁组合物,其包含总 组合物重量之1%至25%之该酸。6.根据申请专利范围 第4项之酸性清洁组合物,其包含总 组合物重量之8%至20%光之该酸。7.根据申请专利范 围第1项之酸性清洁组合物,其包含总 组合物重量之0.01%至5%之该界面活性剂。8.根据申 请专利范围第1项之酸性清洁组合物,其包含总 组合物重量之0.01%至2%之该界面活性剂。9.根据申 请专利范围第4项之酸性清洁组合物,其包含总 组合物重量之0.01%至10%之该界面活性剂。10.根据 申请专利范围第1项之酸性清洁组合物,其中该界 面活性剂为式R1R2R3R4N+X-之阳离子系界面活性剂,其 中 X为抗衡阴离子,R1为C8-C20烃链,且R2.R3及R4系独立 选自H或C1-C4烃链或其混合物。11.根据申请专利范 围第10项之酸性清洁组合物,其中在 该阳离子系界面活性剂中,X为溴根或氯根,R1为C12-C 18 烃链且较宜为C14.C16或C18,及R2.R3及R4均为甲基。12. 根据申请专利范围第4项之酸性清洁组合物,其中 该界 面活性剂为式R1R2R3R4N+X-之阳离子系界面活性剂,其 中 X为抗衡阴离子,R1为C8-C20烃链,且R2.R3及R4系独立 选自H或C1-C4烃链或其混合物。13.根据申请专利范 围第1项之酸性清洁组合物,其中该界 面活性剂为下式之两性离子系界面活性剂:R1-C(O)-N (R2 )-(C(R3)2)n-N(R2)2(+)-(C(R3)2)n-SO3(-)或R1-C(O)-N( R2)-(C(R3)2)n-N(R2)2(+)-(C(R3)2)n-COO(-)其中R1为含 8至多达20个碳原子之烷基,各R2为氢(当连接至醯胺 基之 氮时)、含1至4个碳原子之短链烷基或经取代之烷 基,各 R3系选自包括氢及羟基,且各n为1至4之数目,在任何 (C( R3)2)部份中未超过1个羟基,及其混合物。14.根据申 请专利范围第13项之酸性清洁组合物,其中在 该两性离子系界面活性剂中,R1为含至高18个碳原 子之烷 基,R2为选自包括甲基、乙基、丙基、羟基取代之 乙基或 丙基及其混合物,且n为2至3之数目。15.根据申请专 利范围第13项之酸性清洁组合物,其中该 两性离子系界面活性剂为C10-C14脂醯基醯胺基伸丙 基(羟 伸丙基)磺酸甜菜硷。16.根据申请专利范围第4项 之酸性清洁组合物,其中该界 面活性剂为下式之两性离子系界面活性剂R1-C(O)-N( R2)- (C(R3)2)n-N(R2)2(+)-(C(R3)2)n-SO3(-)或R1-C(O)-N(R2 )-(C(R3)2)n-N(R2)2(+)-(C(R3)2)n-COO(-)其中R1为含8 至多达20个碳原子之烷基,各R2为氢(当连接至醯胺 基之 氮时)、含1至4个碳原子之短链烷基或经取代之烷 基,各 R3系选自包括氢及羟基,且各n为1至4之数目,在任何 (C( R3)2)部份中未超过1个羟基,及其混合物。17.一种器 具除垢之方法,其中系将申请专利范围第1项之 酸性清洁组合物,以其纯质形式或其经稀释形式施 加于该 器具上,然后放置使其作用,随后冲洗去除。18.根 据申请专利范围第17项之器具除垢方法,其中该酸 性清洁组合物含顺丁烯二酸。 |
