发明名称 流体控制装置
摘要 具备配置于上段之多数流体控制构件7,8,9,10及配置于下段之多数接头11,12,13,14,15。自左方第2个之流体控制构件8,以可从上方取出地安装于接头12之方块状本体18,一体设置1个压力调整器19与1个压力传感器20。自左方第3个之流体控制构件9,以可从上方取出地安装于接头11,14之方块状本体22,以一体设置多数之开闭阀23,24。选择图:第1图
申请公布号 TW360758 申请公布日期 1999.06.11
申请号 TW087116895 申请日期 1998.10.12
申请人 大见忠弘;富士金股份有限公司 发明人 大见忠弘;山路道雄;池田信一;增田尚也;广濑隆;横山光佑
分类号 F15B13/02;F15B21/02 主分类号 F15B13/02
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种流体控制装置,其特征在于,具备有配置于上 段之 多数流体控制构件及配置于下段之多数接头,其至 少1个 流体控制构件,可自上方取出地至少安装于1个接 头之方 块状本体,一体的设置多数之单机能构件。2.如申 请专利范围第1项之流体控制装置,其中连通邻接 流体控制构件间之接头之至少1个,是具有V字状连 通路之 方块状接头。3.如申请专利范围第1项之流体控制 装置,其中连通邻接 流体控制构件间之接头之至少1个是,由彼此对接 形成U字 状连通路之2个方块状接头构成构件所构成。4.如 申请专利范围第1项所之体控制装置,其中多数之 单 机能构件都是开闭阀。5.如申请专利范围第1项之 流体控制装置,其中多数之单 机能构件,是1个压力调节器与1个压力传感器。图 式简单 说明:第一图是显示本发明之流体控制装置之第1 实施态 样之侧视图。第二图是该平面图。第三图是显示 本发明之 流体控制装置之第2实施态样之侧视图。第四图是 显示本 发明之流体控制装置之第3实施态样之侧视图。
地址 日本