| 主权项 |
1.一种使用于净化室之气流控制装置,其具有一高 性能粒 子滤器及一用于该滤器之壳体罩,该气流控制装置 包含有 :一设于该滤器与该壳体罩之间且用以控制气流方 向之装 置,其包括一轴、一连接至该轴之一端的方形平板 及多个 叶片,每一叶片具有一连接至该平板之各侧的上侧 ,以使 得当该轴旋转时,该等叶片会沿着对应于该各别连 接之轴 缩回或伸展;该轴包括一弹簧,其系用以在该等叶 片缩回 或伸展时,减低施加至该轴上之张力;及该壳体罩 具有一 形成于其底部之中央孔,以使该轴之另一端延伸穿 过该壳 体罩之该底部。2.如申请专利范围第1项之气流控 制装置,其中该每一叶 片为四边形。3.如申请专利范围第1项之气流控制 装置,其中该每一叶 片为梯形。4.一种净化室,其包含多个用于引入净 化空气之入口;多 个用于排放该净化空气之出口;及一位在每一入口 用于控 制引入的净化空气之可调整气流控制装置,该气流 控制装 置包括:一轴、一连接至该轴之一端的方形平板及 多个叶 片,每一叶片具有一连接至该平板之各侧的上侧, 以使得 当该轴旋转时,该等叶片会沿着相应于该各别连接 之轴缩 回或伸展,该轴包括一弹簧,其系用以在该等叶片 缩回或 伸展时,减低施加至该轴上之张力。5.如申请专利 范围第4项之净化室,其中该气流控制装置 系安装于一高性能粒子滤器与一壳体罩间,该壳体 罩具有 一形成于其底部之中央孔,以使该轴延伸穿过该壳 体罩之 底部。6.如申请专利范围第5项之净化室,其中该净 化室为一对 流型式。图式简单说明:第一图显示使用传统技术 之净化 室;第二图显示第一图之净化室的温度份布;第三 图显示 气体供应装置;第四图显示用于传统净化室之滤器 ;第五 图显示传统填充剂壳体罩;第六图、第七图及第八 图分别 为本发明之气流控制装置的透视图、平面图及侧 面图;第 九图为本发明滤器壳体罩之透视图;第十图及第十 一图分 别说明在传统净化室及本发明净化室的气流分布; 第十二 图及第十三图分别显示在传统净化室及本发明净 化室中测 定气流份布的图。 |
