发明名称 RAPID THERMAL PROCESSING (RTP) SYSTEM WITH GAS DRIVEN ROTATING SUBSTRATE
摘要 <p>An apparatus, method, and system for Rapid Thermal Processing (RTP), whereby the object to be processed is rotated under the radiation sources of the RTP system by a gas jet system, are presented.</p>
申请公布号 WO1999027563(A1) 申请公布日期 1999.06.03
申请号 EP1998007402 申请日期 1998.11.18
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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