PROCESS AND DEVICE FOR APPLYING A PHOTORESIST LACQUER ON UNEVEN BASE BODY SURFACES,申请号EP19970942863-传众专利搜索

发明名称	PROCESS AND DEVICE FOR APPLYING A PHOTORESIST LACQUER ON UNEVEN BASE BODY SURFACES
摘要
申请公布号	EP0919015(A1)	申请公布日期	1999.06.02
申请号	EP19970942863	申请日期	1997.08.19
申请人	FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.	发明人	LUETHJE, HOLGER;DAAUD, SIMONE;BOETTCHER, REINULF
分类号	G03F7/16;B05B13/04;B05C5/00;B05C5/02;B05C11/00;B05C11/10;B05D1/26;B81C1/00;G03F7/18;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/18;B05D1/28	主分类号	G03F7/16
代理机构		代理人
主权项
地址