| 发明名称 |
EXPOSURE METHOD, REGISTER MARK FOR EXPOSURE, AND ITS FORMATION METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11150060(A) |
申请公布日期 |
1999.06.02 |
| 申请号 |
JP19970318705 |
申请日期 |
1997.11.19 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
KOBAYASHI KATSUYOSHI;HATANAKA MASANOBU;NAKAGAWA KENJI;TANAKA HIROYUKI |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027;H01L21/76;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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