| 发明名称 |
APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING FLAW DENSITY OF SEMICONDUTOR AND APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING FLAW SCATTERING CAPACITY OF SEMICONDUCTOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11148903(A) |
申请公布日期 |
1999.06.02 |
| 申请号 |
JP19980247973 |
申请日期 |
1998.09.02 |
| 申请人 |
KOMATSU ELECTRON METALS CO LTD |
发明人 |
WATANABE NORIKO |
| 分类号 |
G01N21/88;G01N21/00;G01N21/93;G01N21/956;H01L21/66;(IPC1-7):G01N21/88 |
主分类号 |
G01N21/88 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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