发明名称 |
Memory cell array and method of producing the same |
摘要 |
In einer Speicherzellenanordnung mit Speicherzellen, in denen eine elektrische Verbindung zwischen polykristallinem Halbleitermaterial einer Kondensatorelektrode (14) und einem monokristallinen Halbleitergebiet (19) besteht, werden im Bereich der elektrischen Verbindung zwischen dem polykristallinen Halbleitermaterial und dem monokristallinen Halbleitergebiet Inseln (13) aus amorphem Material angeordnet. Die Inseln (13) werden insbesondere durch thermisches Aufbrechen einer durch thermische Oxidation gebildeten amorphen Schicht erzeugt. Die Speicherzellenanordnung ist insbesondere eine DRAM-Anordnung mit einem Grabenkondensator. <IMAGE>
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申请公布号 |
EP0920059(A2) |
申请公布日期 |
1999.06.02 |
申请号 |
EP19980119158 |
申请日期 |
1998.10.09 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
BERTAGNOLLI, EMMERICH, PROF.;BECKMANN, GUSTAV, DR.;BIANCO, MICHAEL, DR.;KLOSE, HELMUT, DR. |
分类号 |
H01L21/8242;H01L27/108;(IPC1-7):H01L27/108;H01L21/824 |
主分类号 |
H01L21/8242 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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