发明名称 |
MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND MANUFACTURING EQUIPMENT OF THE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
摘要 |
|
申请公布号 |
JPH11150080(A) |
申请公布日期 |
1999.06.02 |
申请号 |
JP19970317059 |
申请日期 |
1997.11.18 |
申请人 |
DENSO CORP |
发明人 |
MITSUOKA YOSHIHITO;YAMAUCHI SHOICHI |
分类号 |
H01L21/762;H01L21/02;H01L21/265;H01L27/12;(IPC1-7):H01L21/265 |
主分类号 |
H01L21/762 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|