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发明名称
SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING PROCESSING SYSTEM USING THE SAME
摘要
申请公布号
KR100189675(B1)
申请公布日期
1999.06.01
申请号
KR19910070482
申请日期
1991.05.13
申请人
SONY CORPORATION
发明人
IKEDA, JIRO
分类号
C23C14/34;C23C14/56;G11B7/26;(IPC1-7):C23C14/34
主分类号
C23C14/34
代理机构
代理人
主权项
地址
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