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经营范围
发明名称
METALIZATION METHOD FOR A SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号
KR100190076(B1)
申请公布日期
1999.06.01
申请号
KR19960033477
申请日期
1996.08.12
申请人
SAMSUNG ELECTRONICS CO, LTD.
发明人
PARK, JI-SOON;KIM, BYEONG-JUN
分类号
H01L21/28;(IPC1-7):H01L21/28
主分类号
H01L21/28
代理机构
代理人
主权项
地址
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