发明名称 |
PLASMA TREATMENT METHOD AND APPARATUS |
摘要 |
|
申请公布号 |
JPH11144894(A) |
申请公布日期 |
1999.05.28 |
申请号 |
JP19980235276 |
申请日期 |
1998.08.21 |
申请人 |
MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD |
发明人 |
OKUMURA TOMOHIRO;SUMITA KENJI;MATSUDA IZURU |
分类号 |
H05H1/46;C23C14/54;C23C16/50;C23F4/00;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;H01Q9/27;(IPC1-7):H05H1/46;H01L21/306 |
主分类号 |
H05H1/46 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|