发明名称 NIEDERTEMPERATURHERSTELLUNG VON TiN FILMEN MITTELS PLASMA CVD
摘要
申请公布号 DE69506865(T2) 申请公布日期 1999.05.27
申请号 DE19956006865T 申请日期 1995.04.03
申请人 TOKYO ELECTRON LTD., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 FOSTER, ROBERT, F., PHOENIX, AZ 85044, US;HILLMAN, JOSEPH, T., SCOTTSDALE, AZ 85250, US
分类号 C23C8/02;C23C8/36;C23C16/02;C23C16/34;C23C16/50;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/768;(IPC1-7):C23C16/02 主分类号 C23C8/02
代理机构 代理人
主权项
地址