发明名称 | 湿法腐蚀过程的终点探测方法 | ||
摘要 | 一种确定湿法腐蚀工艺过程的终点的方法,包括选择入射光束的相干长度的步骤,使得相干长度足够短以致在液体层中不发生干涉,而足够长以致在薄固体膜,即,从液体层与该薄膜顶面间的界面上的反射光,和从该薄膜底面与衬底之间的界面上的反射光能发生干涉。若液体层厚为100微米,该薄膜厚约1微米,则相干长度约10微米。相干长度由适当的带通滤波器提供。 | ||
申请公布号 | CN1217469A | 申请公布日期 | 1999.05.26 |
申请号 | CN98120706.5 | 申请日期 | 1998.09.23 |
申请人 | 西门子公司;国际商业机器公司 | 发明人 | 卡尔·P·马勒;克劳斯·D·彭纳 |
分类号 | G01N21/17;G01N17/04 | 主分类号 | G01N21/17 |
代理机构 | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人 | 黄敏 |
主权项 | 1、一种确定湿法腐蚀工艺过程终点的方法包括:在装有用于衬底的底座的单面腐蚀机上,提供一个待腐蚀的其上具有薄膜的衬底;用可变厚度的腐蚀剂溶液,覆盖待腐蚀的薄膜表面;选择用于入射光束的相干长度,所述入射光束具有足够长的长度,使得从液体层与薄固体薄膜的顶面之间的界面和从薄固体薄膜的底面与衬底之间的界面反射的光束将存在干涉,以及具有足够短的长度,使得从液体层的顶面和在液体层与薄固体薄膜的顶面之间的界面反射的光束将不存在干涉;提供一个具有选定的相干长度的光束,射向该衬底的表面上;以及监测用该光束在该薄膜上产生的正弦干涉信号,直到光的光强最大保持不变为止,指示腐蚀终点。 | ||
地址 | 联邦德国慕尼黑 |