| 发明名称 | 研磨方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的是提供一种研磨技术,它能够抑制擦痕和剥落、凹陷、磨蚀,而且不需要复杂的洗涤工序和研磨剂供给/处理装置,并降低研磨剂和研磨布等消耗品的成本。本发明的解决方法是:使用含有氧化性物质和使氧化物水溶性化的物质、而不含研磨磨粒的研磨液,对在有沟的绝缘膜23上形成的金属膜21进行研磨。 | ||
| 申请公布号 | CN1216727A | 申请公布日期 | 1999.05.19 |
| 申请号 | CN98123672.3 | 申请日期 | 1998.10.30 |
| 申请人 | 株式会社日立制作所 | 发明人 | 近藤诚一;本间喜夫;佐久间宪之;武田健一;日野出宪治 |
| 分类号 | B24B37/00;H01L21/302 | 主分类号 | B24B37/00 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 杨宏军 |
| 主权项 | 1．研磨方法，是一种将金属膜的至少一部分除去的研磨方法，其特征在于，使用含不足1％(重量)的研磨磨粒、pH及氧化还原电位为所说金属膜的腐蚀区域的研磨液，对所说金属膜表面进行机械的摩擦。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||