发明名称 LINEAR DRIVE SYSTEM FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING
摘要 <p>L'invention se rapporte à un mécanisme d'entraînement linéaire conçu pour le polissage chimique et mécanique et comportant un porte-substrat et un système de support qui met en oeuvre au moins un moteur linéaire pour entraîner le porte-substrat de façon à lui imprimer des mouvements de polissage. L'invention se rapporte également à un organe d'entraînement supplémentaire conçu pour entraîner au moins une partie du porte-substrat dans des directions perpendiculaires aux déplacements provoqués par le(s) moteur(s) linéaire(s). Une plaque souple de verrouillage permet de verrouiller sélectivement le porte-substrat en position verticale. Dans une réalisation de l'invention, le porte-substrat est monté sur un organe d'entraînement vertical par l'intermédiaire d'une colonne. Cette colonne est guidée par des plaques souples spiralées qui empêchent le déplacement dans des directions normales à verticales. Un montage pneumatique est conçu pour supporter la majeure partie du poids du porte-substrat, de sorte que l'organe d'entraînement supplémentaire ne doit appliquer qu'une force relativement faible pour imprimer des mouvements suivant la direction verticale. L'invention décrit également un autre dispositif d'entraînement linéaire qui met en oeuvre un 'moteur de tronçonneuse' pour imprimer les deux types de mouvements de polissage ainsi que pour appliquer la force verticale.</p>
申请公布号 WO1999022908(A1) 申请公布日期 1999.05.14
申请号 US1998023080 申请日期 1998.10.29
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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