发明名称 Positive Photoresistzusammensetzung
摘要
申请公布号 DE69321979(T2) 申请公布日期 1999.05.12
申请号 DE19936021979T 申请日期 1993.02.11
申请人 FUJI PHOTO FILM CO., LTD., MINAMI-ASHIGARA, KANAGAWA, JP 发明人 KAWABE, YASUMASA, C/O FUJI PHOTO FILM CO., LTD., HAIBARA-GUN, SHIZUOKA, JP;AOAI, TOSHIAKI, C/O FUJI PHOTO FILM CO., LTD., HAIBARA-GUN, SHIZUOKA, JP;KOKUBO, TADAYOSHI, C/O FUJI PHOTO FILM CO.,LTD., HAIBARA-GUN, SHIZUOKA, JP;TAN, SHIRO, C/O FUJI PHOTO FILM CO., LTD, HAIBARA-GUN, SHIZUOKA, JP
分类号 C07C45/46;G03F7/004;G03F7/022;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):G03F7/022 主分类号 C07C45/46
代理机构 代理人
主权项
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