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发明名称 Verfahren und Gerät zur Ionenimplantierung mittels eines Hoch-Impedanz-Plasmas
摘要
申请公布号 DE69324326(D1) 申请公布日期 1999.05.12
申请号 DE1993624326 申请日期 1993.11.04
申请人 HUGHES ELECTRONICS CORP., EL SEGUNDO, CALIF., US 发明人 SCHUMACHER, ROBERT W., CALIFORNIA 91367, US;MATOSSIAN, JESSE N., CALIFORNIA 91306, US;GOEBEL, DAN M., CALIFORNIA 91356, US
分类号 C23C14/48;H01J37/317;H01J37/32;H01L21/265;H01L21/324;(IPC1-7):H01J37/32 主分类号 C23C14/48
代理机构 代理人
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