发明名称 用作稳定剂之环形次膦酸衍生物
摘要 一种新颖的式I化合物:CC (I)其中各个符号的定义是如申请专利范围第1项中所定义者,可当作有机物质的稳定剂,以抵抗氧化、热或光-导致的降解。
申请公布号 TW358098 申请公布日期 1999.05.11
申请号 TW086119469 申请日期 1997.12.22
申请人 汽巴特用化学品控股公司 发明人 保罗杜布斯
分类号 C08K5/529 主分类号 C08K5/529
代理机构 代理人 林镒珠 台北巿长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种式I化合物,其中:R1是氢,C1-C4烷基,环己基,1-环己烯基或C7-C9苯基烷基,R2是氢,R3是氢,C1-C4烷基,环己基,2-环己烯基,C7-C9苯基烷基或C1-C4烷氧基,R4是氢,及R5和R6互不相关的分别为氢,C1-C4烷基或苯基,或R5和R6一起和其所键结的碳原子形成一未经取代的C5-C7环烯撑或由氧或硫所中断之未经取代的C5-C6环烯撑,其中该环是未经取代的或由C1-C4烷基或苯基取代的。2.如申请专利范围第1项之化合物,其中:R1是氢,C1-C4烷基或C7-C9苯基烷基,R2是氢,R3是C1-C4烷基,C7-C9苯基烷基或C1-C4烷氧基,R4是氢,及R5和R6互不相关的分别为氢或苯基,或R5和R6一起和其所键结的碳原子形成一未经取代的C5-C7环烯撑或由氧或硫所中断之未经取代的C5环烯撑,其中该环是未经取代的或由C1-C4烷基取代的。3.一种经稳定的组成物,包括:a)一对氧化、热或光-导致降解是敏感的合成聚合物,及b)至少一如申请专利范围第1项之式I化合物,其中成份(b)的量是0.01至10%(依据成份(a)的重量计算)。4.如申请专利范围第3项之组成物,除了成份(a)和(b)外,另外包括其它添加剂。5.如申请专利范围第4项之组成物,其中该其它添加剂是酚抗氧化剂,光稳定剂或/及加工稳定剂。6.如申请专利范围第4项之组成物,其中该其它添加剂至少是一苯并喃-2-酮型式的化合物。7.如申请专利范围第3项之组成物,其中成份(a)是热塑性聚合吻。8.如申请专利范围第3项之组成物,其中成份(a)是苯乙烯或-甲基苯乙烯和二烯,聚丁二烯或丙烯酸衍生物的共聚物或接枝共聚物。9.如申请专利范围第3项之组成物,其中成份(a)是ABS射出成型模制组成物。10.一种稳定合成聚合物抵抗氧化、热或光-导致降解的方法,包括在该聚合物上加入,或施用至少一如申请专利范围第1项之化合物,加入量为0.01至10%重量百分比的合成聚合物。11.一种制备式I化合物的方法,其中各个取代基符号的定义是如申请专利范围第1项中所定义者,包括使一式III化合物和三氯化磷反应:其中各个符号是如申请专利范围第1项中所定义者,而得到一式IV化合物其中各个符号是如申请专利范围第1项中所定义者,接着以水水解此化合物,不需分离。12.一种式IV化合物,其中各个符号是如申请专利范围第1项中所定义者。13.一种式III化合物,其中:R1是氢,C1-C4烷基或C7-C9苯基烷基,R2是氢,R3是C1-C4烷基,C7-C9苯基烷基或C1-C4烷氧基,R4是氢,及R5和R6一起和其所键结的碳原子形成未经取代的环戊烯撑或环庚烯撑,或未经取代的C5-环烯撑,其是由氧或硫所中断的,且该环是未经取代的或由C1-C4烷基取代的。
地址 瑞士