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发明名称
METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE PROVIDED WITH COBALT SILICIDE FILM
摘要
申请公布号
JPH11126759(A)
申请公布日期
1999.05.11
申请号
JP19970290184
申请日期
1997.10.22
申请人
SEIKO EPSON CORP
发明人
SHIMADA HIROYUKI
分类号
H01L21/28;H01L21/336;H01L29/78;(IPC1-7):H01L21/28
主分类号
H01L21/28
代理机构
代理人
主权项
地址
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