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发明名称 PLASMA ETCH REACTOR AND METHOD OF ETCHING A WAFER
摘要
申请公布号 EP0913074(A1) 申请公布日期 1999.05.06
申请号 EP19970903910 申请日期 1997.01.23
申请人 TEGAL CORPORATION 发明人 DEORNELLAS, STEPHEN, P.;COFER, ALFERD;VAIL, ROBERT, C.
分类号 H05H1/46;H01J37/32;H01L21/02;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3213;H05H1/18;(IPC1-7):H05H1/00 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
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