| 摘要 |
종래의 웨이퍼를 이용하는 액티브 매트릭스 반사식 투사 시스템 ( 80, 120, 142, 156, 158, 164)은 반사식 이미지 평면 모듈 ( 30, 52, 66, 70, 76, 78 )을 포함한다. 또한 모듈을 광 조사 및 반사 구조체 ( 40, 42, 44, 48, 56, 58, 64, 74 )및 그와 합치되는 웨이퍼 베이스 액티브 매트릭스 (46)를 포함한다. 광원 ( 32, 68, 72 )이 모듈에 조사되며, 모듈내에서 웨이퍼 베이스 액티브 매트릭스 는 그로부터 반사된 광 비임상에 정보를 부여한다. 모듈을 1또는 그 이상의 렌즈 (50) 를 통하여, 반사된 광비임을 투사한다. 반사식 이미지 평면 모듈은, 제1면을 통해서 제2면과 합치되는 웨이퍼 베이스 액티브 매트릭스 광 또는 광 성분을 통과시키고 제1면으로부터의 반사된 광을 투사하는 프리즘 또는 거울을 포함한다. |
