PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA LA FORMACION DE UN REVESTIMIENTO SOBRE UN SUBSTRATO DE PULVERIZACION CATODICA.

摘要

PROCESO Y DISPOSITIVO PARA LA FORMACION DE UN REVESTIMIENTO SOBRE UN SUSTRATO (17) POR PULVERIZACION CATODICA ("SPUTTERING") EN UN RECINTO (15, 16) EN PRESENCIA DE UN GAS IONIZADO, SEGUN EL CUAL SE HACE USO DE UN BLANCO (1) QUE PRESENTA UNA CAPA SUPERFICIAL (8) ORIENTADA HACIA EL SUSTRATO (17) Y QUE CONTIENE AL MENOS UNO DE LOS ELEMENTOS A DEPOSITAR SOBRE ESTE SUSTRATO (17), ESTANDO ALIMENTADA LA CAPA SUPERFICIAL POR ELEMENTOS A DEPOSITAR SOBRE EL SUSTRATO Y SIENDO MANTENIDA O LLEVADA EN ESTADO LIQUIDO, DE MANERA A PERMITIR UNA DISTRIBUCION, PREFERENTEMENTE SENSIBLEMENTE UNIFORME, DE LOS ELEMENTOS ALIMENTADOS SOBRE LA SUPERFICIE DEL BLANCO.