COMPOSICIONES DE CHAMPU CON DEPOSICION MEJORADA DE AGENTE ANTIMICROBICOS

摘要

La presente invención se relaciona con una composición de champú con deposición mejorada de agentes antimicróbicos. La cual comprende: (a) desde cerca de 7% hasta cerca de 30% en peso de un surfactante detersivo seleccionado del grupo consistente de surfactantes aniónicos, surfactantes anfóteros, surfactantes zwitteriónicos, y combinaciones de estos; (b) desde cerca de 0.1% hasta cerca de 10% en peso de un agente antimicróbico; (c) desde cerca de 0.5% hasta cerca 10% en peso de un agente de suspensión; (d) desde cerca de 0.01% hasta cerca de 1.0% en peso de un polímero catiónico de guar que tiene una densidad de carga desde cerca de 0.01 meq/g hasta cerca de 3 meq/gm; y (e) desde cerca de 40% hasta cerca de 92% en peso de agua; en donde por lo menos cerca de 50% en peso del polímero catiónico de guar está en forma de coacervato, dicho coacervato comprende surfactante detersivo y polímero catiónico de guar.