| 发明名称 |
METHOD FOR PLASMA FILM TREATMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11111708(A) |
申请公布日期 |
1999.04.23 |
| 申请号 |
JP19970284450 |
申请日期 |
1997.09.30 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LTD |
发明人 |
OKA SHINSUKE;NAKASE RISA;SAITO MASAHIDE |
| 分类号 |
H05H1/46;C23C16/50;C23C16/511;H01L21/205;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/31 |
主分类号 |
H05H1/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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