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发明名称 METHOD FOR FORMING POLYCRYSTALLINE SILICON LAYER
摘要
申请公布号 KR0179139(B1) 申请公布日期 1999.04.15
申请号 KR19950027192 申请日期 1995.08.29
申请人 LG ELECTRONICS CORP. 发明人 KIM, HONG-KYU
分类号 H01L21/20;(IPC1-7):H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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