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发明名称 METHOD OF MANUFACTURING ELEMENT ISOLATION FILM OF SEMICONDUCTOR
摘要
申请公布号 KR0183879(B1) 申请公布日期 1999.04.15
申请号 KR19960020369 申请日期 1996.06.07
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO, LTD. 发明人 AHN, DONG-HO;HWANG, MIN-WOOK;PARK, YOUNG-WOO
分类号 H01L21/316;H01L21/76;H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/76 主分类号 H01L21/316
代理机构 代理人
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