| 发明名称 |
CLEANING WAFER SUBSTRATES OF METAL CONTAMINATION WHILE MAINTAINING WAFER SMOOTHNESS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR0177279(B1) |
申请公布日期 |
1999.04.15 |
| 申请号 |
KR19950014782 |
申请日期 |
1995.06.05 |
| 申请人 |
MALLINCKRODT NAKER INC. |
发明人 |
ILARDI, JOSEPH M.;SCHWARTZKOPF, GEORGE |
| 分类号 |
C11D1/88;C11D1/90;C11D1/92;C11D3/26;C11D3/43;C11D7/06;C11D7/32;C23G5/02;H01L21/304;H01L21/306;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
C11D1/88 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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