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发明名称 WAFER POLISHING APPARATUS
摘要
申请公布号 KR0186674(B1) 申请公布日期 1999.04.15
申请号 KR19960007590 申请日期 1996.03.20
申请人 INTERNATIONAL TECHNOLOGY CO., LTD. 发明人 LEE, SUK-HAENG
分类号 H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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