发明名称 | 光电元件及其制备方法 | ||
摘要 | 一种有多个pin结的光电元件,每个pin结由p型半导体层、i型半导体层、n型半导体层形成,每层包括Ⅳ族元素作主要成分的非单晶材料,光电元件的第一个pin结包括作i型半导体层的主要成分的微晶碳化硅(微晶SiC),第二个pin结包括作i型半导体层的主要成分的微晶硅,第一个pin结比第二个pin结更靠近光入射侧。由此提供的光电元件成本低、几乎无光退化、有高的光电转换效率,且其制备方法能以实用的淀积速率形成i型微晶硅和微晶SiC。 | ||
申请公布号 | CN1213861A | 申请公布日期 | 1999.04.14 |
申请号 | CN98117950.9 | 申请日期 | 1998.07.31 |
申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 松山深照 |
分类号 | H01L31/075;H01L31/18 | 主分类号 | H01L31/075 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 付建军 |
主权项 | 1.一种有多个pin结的光电元件,每个pin结由p型半导体层、i型半导体层、n型半导体层形成,每层包括Ⅳ族元素作主要成分的非单晶材料,光电元件的第一个pin结包括作i型半导体层的主要成分的微晶碳化硅(此后称为微晶SiC),第二个pin结包括作i型半导体层的主要成分的微晶硅(此后称为微晶Si),其中第一个pin结比第二个pin结更靠近光入射侧。 | ||
地址 | 日本东京都 |