| 发明名称 |
Polymer mixture for photoresist and photoresist composition containing the same |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB9904020(D0) |
申请公布日期 |
1999.04.14 |
| 申请号 |
GB19990004020 |
申请日期 |
1999.02.22 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO LIMITED |
发明人 |
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| 分类号 |
H01L21/027;C08L25/00;C08L25/18;C08L33/04;G03F7/004;G03F7/039 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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