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经营范围
发明名称
Plasma reactors for processing semiconductor wafers
摘要
申请公布号
EP0715334(B1)
申请公布日期
1999.04.14
申请号
EP19950307269
申请日期
1995.10.13
申请人
APPLIED MATERIALS, INC.
发明人
ZHAO, JUN;SMYTH, KENNETH;MCNUTT, GERALD;WOLFF, STEFAN;TAYLOR, WILLIAM NIXON, JR.
分类号
H01L21/02;H01J37/32;H05H1/46;(IPC1-7):H01J37/32
主分类号
H01L21/02
代理机构
代理人
主权项
地址
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