发明名称 |
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH1195427(A) |
申请公布日期 |
1999.04.09 |
申请号 |
JP19970251146 |
申请日期 |
1997.09.16 |
申请人 |
HITACHI CHEM CO LTD |
发明人 |
TANAKA YOJI;CHIBA TATSUO;WATANABE MITSUAKI;MINAMI YOSHITAKA |
分类号 |
G03F7/027;C08F265/06;C08F299/02;C09D4/00;C09D5/00;G03F7/004;G03F7/033;H05K3/06;H05K3/18;(IPC1-7):G03F7/033 |
主分类号 |
G03F7/027 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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