发明名称 铜/聚酰亚胺BEOL中的堆叠通孔
摘要 一种通过另一互连级连接垂直相隔的两个互连级的方法,通过形成要制成接触的第一互连区、在该互连区上形成第一绝缘区、在第一绝缘层上形成一腐蚀终止层、腐蚀腐蚀终止层以在第一互连区上一位置处形成一开口实现,形成与第一绝缘层接触并在第一互连区上的第二互连区,在第一绝缘层和腐蚀终止层上形成第二绝缘层,在第二绝缘层内形成开口,第二绝缘层内的开口覆盖腐蚀终止层内的开口,延伸第二绝缘层内的开口通过第一绝缘层,用导体填充第一和第二绝缘层内的开口,在第一互连区和第二绝缘层上的区域之间形成连接。
申请公布号 CN1213166A 申请公布日期 1999.04.07
申请号 CN98119565.2 申请日期 1998.09.22
申请人 国际商业机器公司 发明人 J·E·克罗宁;B·J·卢瑟
分类号 H01L21/70 主分类号 H01L21/70
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 邹光新;王忠忠
主权项 1.一种通过另一互连级连接垂直地相隔的两个互连级的方法,特征在于包括以下步骤:a)形成要制成接触的第一互连区;b)在该互连区上形成第一绝缘区;c)在第一绝缘层上形成一腐蚀终止层;d)腐蚀腐蚀终止层以在所述第一互连区上一位置处形成一开口;e)形成与所述第一绝缘层接触并在所述第一互连区上的第二互连区;f)在所述第一绝缘层和所述腐蚀终止层上形成第二绝缘层;g)在所述第二绝缘层内形成一开口,在所述第二绝缘层内的所述开口覆盖腐蚀终止层内的所述开口;h)延伸所述第二绝缘层内的所述开口通过所述第一绝缘层;以及i)用导体填充所述第一和第二绝缘层内的开口,在所述第一互连区和所述第二绝缘层上的区域之间形成连接。
地址 美国纽约州