Process and reactor system for CVD surface coating

摘要

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und ein Reaktorsystem zur CVD-Oberflächenbeschichtung. Bei diesem Verfahren wird das Reaktionsgas in beliebiger Frequenz und mit beliebigen Intervallen zeitlich nacheinander fallend und steigend in Form eines gepulsten Gasstromes in den Reaktorraum eingebracht. Der Umkehrung der Gasströmungsrichtung dient ein innerhalb der Reaktor gelegenes Mehrwegeventil, das von außen mittels einer Stellwelle steuerbar ist.