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Procédé et dispositif pour le décapage en continu d'au moins une des faces d'un substat (1), suivant lequel on déplace ce substrat (1) suivant une direction déterminée entre une anode (8), par rapport à laquelle il est polarisé négativement, et au moins un circuit magnétique (2) disposé en regard de cette anode (8), avec la face à décaper orientée vers l'anode (8), et on crée, à proximité de cette face, un plasma (10) dans un gaz, de manière à générer des radicaux et/ou des ions agissant sur cette dernière, en faisant usage de moyens permettant d'adapter la largeur du champ d'action du circuit magnétique à la largeur de la zone à décaper du substrat (1).
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