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发明名称 PHOTORESIST USING STYRENE-BASED DERIVATIVE SUBSTITUTED WITH CYCLOAMIDE
摘要
申请公布号 KR0180974(B1) 申请公布日期 1999.04.01
申请号 KR19980036332 申请日期 1998.09.03
申请人 KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY 发明人 KIM, JIN-BAEK;PARK, JONG-JIN
分类号 G03F7/037;G03F7/039;(IPC1-7):G03F7/039 主分类号 G03F7/037
代理机构 代理人
主权项
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