| 发明名称 | 改进雾气和雾气流性质的雾化前体沉积设备和方法 | ||
| 摘要 | 一个基体(5)位于沉积室(2)中,该基体确定了基体平面。一个阻隔板(6)置于基体之上,与基体相互隔开并平行,在与所说基体平行的平面上的所说阻隔板的面积与在所说基本平面上的所说基体的面积基本相同。阻隔板的平整度的容许偏差为所说阻隔板和所说基体之间平均距离的5%。产生一种雾气(66),使其在一缓冲室(42)中沉降,通过1微米的过滤器(33)过滤,流入基体与阻隔板之间的沉积室中以在基体上沉积一液体层。该液体经干燥在基体上形成一固体物质的薄膜(1130),后者随后被加入到集成电路(1110)的一个电子元件(1112)中。 | ||
| 申请公布号 | CN1212734A | 申请公布日期 | 1999.03.31 |
| 申请号 | CN97192815.0 | 申请日期 | 1997.03.04 |
| 申请人 | 塞姆特里克斯公司;松下电器工业株式会社 | 发明人 | 林慎一郎;拉里·D·麦克米伦;吾妻正道;卡洛斯·A·帕兹德阿劳霍 |
| 分类号 | C23C26/02;C23C18/14 | 主分类号 | C23C26/02 |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 于辉 |
| 主权项 | 1、用于制备集成电路(1110)的设备(1)，所说的设备含有：(a)一个沉积室(2)；(b)位于所说沉积室中的一个基体(5)，所说的基体确定了基体平面；(c)用于产生液态前体(64)的雾气(66)的装置(46-1)；(d)用于使所说雾气流经所说沉积室以在所说基体上形成一层前体液体的装置(8,10)；和(e)在所说雾气流经所说沉积室之前用于降低所说雾气中微粒尺寸的装置(33,40)。 | ||
| 地址 | 美国科罗拉多州 | ||