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发明名称
MASK LAYOUT METHOD OF INTEGRATED CIRCUIT, INTEGRATED CIRCUIT FORMED BY USE THEREOF, AND STORAGE MEDIUM RECORDING IT
摘要
申请公布号
JPH1187518(A)
申请公布日期
1999.03.30
申请号
JP19970238476
申请日期
1997.09.03
申请人
NEC CORP
发明人
KATO FUMIYASU
分类号
H01L21/822;G06F17/50;H01L21/82;H01L27/04;(IPC1-7):H01L21/82
主分类号
H01L21/822
代理机构
代理人
主权项
地址
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