| 发明名称 |
METHOD FOR FORMING FIELD OXIDE FILM OF SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
KR0172729(B1) |
申请公布日期 |
1999.03.30 |
| 申请号 |
KR19950069487 |
申请日期 |
1995.12.30 |
| 申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS IND. CO.,LTD |
发明人 |
PARK, SANG-HOON |
| 分类号 |
H01L21/30;(IPC1-7):H01L21/30 |
主分类号 |
H01L21/30 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
