| 发明名称 |
Wafer processing apparatus wafer processing method and semiconductor substrate fabrication method |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG63810(A1) |
申请公布日期 |
1999.03.30 |
| 申请号 |
SG19980000290 |
申请日期 |
1998.02.10 |
| 申请人 |
CANON KABUSHIKI KAISHA |
发明人 |
UEHARA FUMIO;SAKAGUCHI KIYOFUMI;HARADA MASAKAZU |
| 分类号 |
H01L21/304;B08B3/10;B08B3/12;H01L21/00;H01L21/20;H01L21/306;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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