首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Method for improving deposit of photoresist on wafers
摘要
申请公布号 SG63582(A1) 申请公布日期 1999.03.30
申请号 SG19960003920 申请日期 1990.05.18
申请人 HEWLETT-PACKARD COMPANY 发明人 GORDON, WILLIAM, G.
分类号 B05D1/32;G03F7/16;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/16 主分类号 B05D1/32
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com